תהליך ייצור של סרט אנטי רפלקטיבי

תהליך טכנולוגי
ספק חומרי צמיחה ומקורות גז: ספק חומרי צמיחה לסרט המשקף האנטי, כמו SIO בכמה התגלגויות, תוך מתן מקורות גז המתאימים לחומרי הגידול, כמו SIH ₄, N ₂ O ו- N ₂ שילובי מקור גז.
היווצרות שכבת השתקפות אנטי: השתמש באותו חומר צמיחה כדי ליצור ברצף לפחות שתי שכבות אנטי השתקפות של סרט השתקפות אנטי על שכבת המצע. שכבת המצע יכולה לכלול שכבת SIO, שכבת SI ושכבת ספיגה ברצף לאורך כיוון צמיחת הסרטים. נטילת שכבת ההשתקפות נגד שתי שכבות (שכבת השתקפות אנטי ראשונה ושכבת השתקפות אנטי שנייה) כדוגמה, היא נוצרת על ידי תהליך צמיחה אפיטקסיאלי (כגון שיטת התמצית אדי כימית משופרת של פלזמה). הצעדים הספציפיים הם כדלקמן:
עיבוד מצע: לאחר תהליך ניקוי מוליכים למחצה בשכבת המצע, הניח את שכבת המצע על ציוד התצהיר CVD.
הגדרות פרמטר ציוד: שלוט בטמפרטורת האלקטרודה העליונה של ציוד ההפקדה של CVD לתואר 200-300 וטמפרטורת האלקטרודה התחתונה לתואר {}}}.
צמיחה של שכבת ההשתקפות הראשונה נגד האנטי: התאם את פרמטרי ההפקדה הראשונים של ציוד התצהיר CVD, כולל קצב זרימת הנפח הראשון של Sih ₄, n ₂ o ו- n ₂, לחץ הגז הראשון, כוח ה- RF הראשון של ציוד ההפקדה של CVD, טווח ההתקפה הדק הראשון וכו ', או כל שילוב בהן, כדי לגדל את שכבת ההתקפה הראשונה ( של 1. 4-1. 71.
צמיחה של שכבת השתקפות אנטי שנייה: התאם את פרמטרי ההפקדה השנייה של ציוד ההפקדה של CVD, כולל קצב זרימת הנפח השני של SIH ₄, n ₂ O ו- N ₂, לחץ הגז השני, כוח ה- RF השני של ציוד ההפקדה של CVD, זמן התצהיר הדק השני וכו ', או כל שילוב, כדי להגדיל את שכבת ההשתקפות הראשונה, עם שכבת השתקפה הראשונה, עם שכבה ראשונה, ראשית, עם שכבת אנטי -טווח, ראשונה, ראשית, עם שכבתי, Trane, The Auti, Trane, The Auti, The A Grade, Firsti, עם Trane, Trane, The A Grade, The Auti, עם צמיחה של צעד, 10-200 nm וטווח אינדקס שבירה של 1. 4-1. 71.

יתרונות טכנולוגיים
על ידי שימוש באותו חומר צמיחה, סרט ההשתקפות אנטי יכול להשיג את אותו אפקט אנטי השתקפות בהשוואה לסרטי השתקפות אנטי מוערמים של חומרים שונים, להפחית את סוגי מקורות הגז המשמשים, להוריד את הקושי בתהליך ההכנה והגדלת שטח ההכנה ואזור העבודה עקב אחסון ושימוש במקורות גז במהלך תהליך ההכנה.

תהליך ייצור של Sio היברידי ₂\/tio ₂ סרט אנטי רפלקטיבי

תהליך טכנולוגי
הכנת מצע: בחר מצעים שקופים כמו זכוכית, זכוכית אורגנית, סרט פולימיד וכו ', וביצעו טיפול בהסרת כתמים כדי להבטיח משטח נקי ונטול אבק. במידת הצורך ניתן לבצע ליטוש חד צדדי או דו-צדדי כדי לשפר את יעילות העברת האור.
הכנת מבשר הסרט: Tetraethoxysilane (TEOS) ו- Tetrabutyl Titanate (TBT) מתווספים לאתנול המכיל NH ₄ OH בפרופורציה מסוימת, והתגובה מוחזקת עבור 9-12 שעות כדי להשיג מערכת סול -ג'ל שקופה.
ציפוי וריפוי: מערכת הג'ל SOL המוכנה מצופה באופן שווה על המצע השקוף, וניתן להשתמש בציפוי ספין, ריסוס, צחצוח ותכניות אחרות. לאחר הציפוי, מבשר הסרט ההיברידי SiO ₂\/tio ₂ מוצב בתנור לריפוי וחישול, ויוצר מבנה רב שכבתי.
ציפוי מעגלי: חזור על תהליך הציפוי והריפוי עד לקבלת ההשפעה הרפלקטיבית הרצויה. זמני ציפוי ורצפים שונים ישפיעו על הביצועים של סרטים אנטי -רפלקטיביים, ויש צורך במחקר ואופטימיזציה.
טיפול פני השטח: כדי להגדיל את העמידות והיציבות של הסרט המשקף האנטי, ניתן לצלם שכבה של פולימר הידרופילי והידרופובי על פני הסרט האנטי רפלקטיבי.

תהליך ייצור של סרט אנטי רפלקטיבי אינפרא אדום
תהליך טכנולוגי
סרט ההשתקפות נגד האינפרא אדום מבוסס על סיליקון ומצופה בסרטי השתקפות אנטי משני צידי המצע. מבנה מערכת הקולנוע של סרט ההשתקפות האנטי אינו תלוי זה בזה כ- (HL) ^, כאשר H מייצג את שכבת ה- SI, L מייצג את שכבת ה- SIO, S מייצג את תקופת המבנה הבסיסי של HL, והערך של S הוא מספר שלם בין 3-6. שכבת SI צמודת למצע, ושכבת SIO ממוקמת על פני השטח. תהליך הציפוי משמש לחיבור שכבת הסרט למצע, עם שכבת סרטי SIO כשכבה החיצונית ביותר, בעלת קשיות פני השטח הגבוהה ואינו דורש שכבת הגנה נוספת. בנוסף, ל- SIO מדד שבירה נמוך יותר, שיכול להפחית את הרפלקטיביות של פני השטח ולהגדיל עוד יותר את העברת האינפרא אדום.

תהליך ייצור של CO עמיד בטמפרטורה גבוהה של סרט אנטי רפלקטיבי לייזר
תהליך טכנולוגי
היתוך מקדים חומר: טיפול נפרד לפני התכה מתבצע על פני יטטריום פלואוריד, סידן יטטריום פלואוריד וחומרי סרטים סלניד אבץ כדי להסיר זיהומים בתוך חומרי הסרט.
שכבת סרטי תצהיר: שכבת הפלואוריד הראשונה של yttrium, שכבת פלואוריד סידן yttrium, שכבת סלניד אבץ ושכבת פלואוריד שנייה מופקדים ברצף על שכבת מצע סלניד אבץ בעובי של 3 ± {}}. שטח הכיסוי של כל שכבה הוא מעל 95% משטח הפנים של שכבת המצע. דרישות העובי הפיזי עבור כל שכבה הן כדלקמן: העובי הפיזי של שכבת הפלואוריד הראשונה של yttrium הוא 95-100 ננומטרים; העובי הפיזי של שכבת הפלואוריד הסידן ytterbium הוא 860-870 ננומטרס; העובי הפיזי של שכבת הסלניד האבץ הוא 240-250 ננוטרס; העובי הפיזי של שכבת הפלואוריד השנייה של yttrium הוא 95-100 ננומטר.
 

יתרונות טכנולוגיים
לקרום ההשתקפות האנטי המוכן יש מבנה פשוט ועיצוב מעודן. לשילוב ארבע השכבות יש מאפיינים של עמידות בטמפרטורה גבוהה, העברה גבוהה, שכבת קרום יציבה, לחץ משלים בין שכבות קרום, ואי קרע של שכבות קרום. זה יכול לעמוד בפעולה רציפה של רכיבים בתנאי טמפרטורה גבוהים, והחומרים המשמשים בכל שכבה אינם רדיואקטיביים, מה שלא יגרום נזק למפעילים ולסביבה.